Pengaruh Ketebalan Lapisan Aktif terhadap Karakteristik Sel Surya Berbasis a-Si:H yang Ditumbuhkan dengan Teknik HWC-VHF-PECVD
Abstrak: Telah dikembangkan
teknik HWC-VHF-PECVD (Hot Wire Cell Very High Frequency Plasma Enhanced
Chemical Vapor Deposition) untuk penumbuhan lapisan tipis silikon. Teknik ini telah digunakan pula pada fabrikasi
divais sel surya p-i-n berbasis silikon amorf terhidrogenasi (a-Si:H) dengan
ketebalan lapisan aktif (lapisan-i) yang bervariasi. Berdasarkan hasil
pengukuran karakteristik arus-tegangan (I-V) sel surya yang dihasilkan,
diketahui bahwa efisiensi konversi sangat dipengaruhi oleh ketebalan lapisan-i
masing-masing sel surya tersebut. Dalam penelitian ini, efisiensi konversi
tertinggi mencapai 9,39 % yang diperoleh dari sel surya dengan ketebalan
lapisan-i 5500 Ã…. Semua parameter sel surya mengalami penurunan saat ketebalan
lapisan-i ditingkatkan hingga ketebalan 6000 Ã…, yang diduga akibat peningkatan
hambatan seri sel surya yang ditandai dengan nilai fill factor yang terus mengalami
penurunan.
Kata kunci: HWC-VHF-PECVD,
Lapisan aktif, Efisiensi konversi
Penulis: Ida Usman dan Toto
Winata
Kode Jurnal: jpfisikadd080001