Pengaruh Ketebalan Lapisan Aktif terhadap Karakteristik Sel Surya Berbasis a-Si:H yang Ditumbuhkan dengan Teknik HWC-VHF-PECVD

Abstrak: Telah dikembangkan teknik HWC-VHF-PECVD (Hot Wire Cell Very High Frequency Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) untuk penumbuhan lapisan tipis silikon. Teknik  ini telah digunakan pula pada fabrikasi divais sel surya p-i-n berbasis silikon amorf terhidrogenasi (a-Si:H) dengan ketebalan lapisan aktif (lapisan-i) yang bervariasi. Berdasarkan hasil pengukuran karakteristik arus-tegangan (I-V) sel surya yang dihasilkan, diketahui bahwa efisiensi konversi sangat dipengaruhi oleh ketebalan lapisan-i masing-masing sel surya tersebut. Dalam penelitian ini, efisiensi konversi tertinggi mencapai 9,39 % yang diperoleh dari sel surya dengan ketebalan lapisan-i 5500 Ã…. Semua parameter sel surya mengalami penurunan saat ketebalan lapisan-i ditingkatkan hingga ketebalan 6000 Ã…, yang diduga akibat peningkatan hambatan seri sel surya yang ditandai dengan nilai  fill factor yang terus mengalami penurunan. 
Kata kunci: HWC-VHF-PECVD, Lapisan aktif, Efisiensi konversi
Penulis: Ida Usman dan Toto Winata
Kode Jurnal: jpfisikadd080001

Artikel Terkait :