Pengaruh Parameter Proses Pelapisan Nikel Terhadap Ketebalan Lapisan
ABSTRAK: Proses pelapisan
nikel dengan menggunakan arus listrik (electroplating) merupakan salah satu
pelapisan yang paling banyak digunakan pada industri sebagai hasil akhir atau
lapisan dasar untuk proses selanjutnya. Proses pelapisan nikel dapat
diaplikasikan untuk produk seperti pada
medali yang bertujuan untuk melindungi
logam dasar (tembaga) dari korosi dan permukaannya mempunyai warna yang
mengkilap selama masa pakainya. Tebal lapisan yang dihasilkan pada permukaan
medali ini akan dipengaruhi oleh beberapa parameter proses pelapisan,
diantaranya rapat arus, temperatur dan
waktu pelapisan. Metode penelitian yang digunakan adalah metoda eksperimental
dengan melakukan pengujian ketebalan terhadap medali yang telah dilapis nikel
dengan menvariasikan parameter waktu pelapisan (5, 10, 15 menit), rapat arus
(0,28, 0,35, 0,42 amper) dan temperatur (40oC, 50oC, 60oC). Parameter waktu pelapisan,
temperatur dan rapat arus yang digunakan
selama proses pelapisan ini akan mempengaruhi hasil lapisan nikel secara
kuantitas, dimana semakin lama waktu pelapisan, semakin besar rapat arus dan
semakin tinggi temperatur yang digunakan maka semakin tebal lapian nikel yang
dihasilkan pada permukaan medali. Dari
hasil pengujian diperoleh nilai tertinggi untuk tebal lapisan adalah 82 µm pada
0.42 amper dengan waktu pelapisan 15 menit dan temperatur pelapisan 60oC.
Penulis: Bambang Santosa dan
Martijanti Syamsa
Kode Jurnal: jptmesindd070005
