Pengaruh waktu pelapisan nikel pada tembaga dalam pelapisan khrom dekoratif terhadap tingkat kecerahan dan ketebalan lapisan

Abstrak: Elektroplating merupakan suatu prosespengendapan elektro lapisan logam pada elektrode yang bertujuan membentuk permukaan dengan sifat atau dimensi yang berbeda dengan logam dasarnya. Logamyang dilapisi adalah tembaga karena mudah dibentuk menjadi perhiasan, alatindustri, bagian kendaraan bermotor dan lain sebagainya. Logam pelapis yang digunakan dalam pelapisan khrom dekoratif ini adalah nikel dan khrom. Penelitian ini menggunakan spesimen berupa tembaga yang berjumlah 15 buah dengan panjang 60 mm dan diameter 14 mm. Dalam pelaksanaan pelapisan pertama menggunakan voltase 5 volt, temperatur 600C dan dengan arus 50 ampere. Variasi dilakukan pada waktu pencelupan yaitu 5 menit, 10 menit, 15 menit, 20 menit dan 25 menit dengan tiga kali pengulangan. Sedang pada pelapisan kedua menggunakan voltase 5 volt, temperatur 500C, arus 50 ampere dan waktu pencelupan 2 menit. Hasil penelitian ini adalah dengan variasi waktu pelapisan nikel pada tembaga yang dilakukan (dengan range 5 menit-25 menit), nilai iluminasi cahayanya (tingkat kecerahannya) dan ketebalan lapisannya meningkat, yaitu pada waktu pelapisan nikel 5 menit nilai iluminasi cahayanya adalah 3297,027 lux dan ketebalannya adalah 14,1 µm hingga pada waktu pelapisan nikel 20 menit yaitu sebesar 8242,904 lux untuk iluminasi cahayanya dan hingga waktu pelapisan nikel 25 menit yaitu sebesar 55,77 µm untuk ketebalan lapisannya. Sedangkan untuk waktu pelapisan nikel 25 menit nilai iluminasi cahayanya menurun yaitu sebesar 6868,862 lux yang disebabkan karena banyak lubang pada permukaan lapisan.
Kata kunci: Elektroplating khrom dekoratif, waktu pelapisan nikel, tingkat kecerahan, ketebalan lapisan
Penulis: I Ketut Suarsana
Kode Jurnal: jptmesindd080090

Artikel Terkait :

Jp Teknik Mesin dd 2008