Efek doping Al pada sifat optik dan listrik lapisan tipis ZnO hasil deposisi dengan DC sputtering

Abstrak: Telah dilakukan deposisi lapisan tipis ZnO didoping Al (ZnO:Al) pada substrat kaca dengan DC sputtering. Struktur kristal lapisan dikarakterisasi dengan difraksi sinar-X (XRD). Hasil XRD menunjukkan bahwa lapisan tipis ZnO:Al yang terdeposit pada substrat kaca adalah polikristal yang terorientasi dengan sumbu-c tegak lurus pada permukaan substrat. Orientasi kristalografi dipengaruhi oleh suhu substrat dan konsentrasi doping Al2O3. Sifat optik lapisan diukur dengan spektrofotometer UV-Visible pada suhu kamar, hasilnya menunjukkan bahwa transmitansi rata-rata lapisan adalah 85,5% dalam rentang panjang gelombang (350_1100) nm. Indeks bias lapisan yang diperoleh meningkat dengan bertambahnya konsentrasi doping Al2O3 dan menurun pada konsentrasi 3%. Sifat listrik lapisan tipis ZnO:Al ditentukan dengan metode I-V, dan hasilnya menunjukkan bahwa resistivitas listrik sebesar (108± 4) × 10 "6m telah diperoleh pada konsentrasi doping Al2O3 2%.

Kata Kunci: Sputtering, ZnO:Al, XRD, sifat optik dan sifat listrik

Penulis: Sri Yani Purwaningsih, Karyono, Sudjatmoko

Kode Jurnal: jpfisikadd050010

Artikel Terkait :

Jp Fisika dd 2005

• Aplikasi Pengolahan Citra dan Jaringan Syaraf Tiruan Untuk Pengenalan Pola Tulisan Tangan
• Ketebalan Kulit Bumi dan Struktur Kecepatan Antara Hiposenter Gempa M012601A dan Stasiun AAK
• Metode rasio sisa cahaya terpolarisasi lingkaran untuk menentukan fase retarder
• Formulasi Analitis Tetapan Propagasi Efektif Modus TE untuk Directional Coupler Linier Diturunkan dengan Metode Matrik Karakteristik Lapis Jamak
• Pengaruh Anti Oksidan Terhadap Kestabilan Sifat Fisis Bahan Polipaduan Polipropilena-Karet Alam: I. Studi Morfologi dan Sifat Mekanik
• Pengaruh Suhu Konversi Termal pada kualitas film tipis PPV
• Mekanisme Seesaw dalam Ruang dengan Dimensi Ekstra
• Variasi tekanan dalam proses metalurgi serbuk dan pengaruhnya pada modulus elastisitas bahan komposit Al-SiC
• Kompaktifikasi Teori String Heterotik pada Manifold Calabi-Yau
• Analisa dan Teka-teki Tiga Generasi Neutrino Massif
• Efek Magnetisasi Spontan dan Karakteristik Transport Listrik Film Tipis TiO2:Co yang ditumbuhkan dengan Metode MOCVD
• Optimasi Parameter Tekanan Deposisi pada Penumbuhan Lapisan Tipis Polykristal Silikon dengan Metode Hot Wire Cell PECVD
• Analisis Sifat-sifat Optoelektronik Lapisan Tipis Silikon Amorf terhidrogenasi yang ditumbuhkan dengan Teknik VHF-PECVD pada Variasi Daya RF
• Karakteristik Film Tipis GaAs yang Ditumbuhkan dengan Metode MOCVD Menggunakan Sumber Metalorganik TDMAAs (Trisdimethylaminoarsenic)
• Sifat Listrik Film Tipis SrTiO3 untuk Kapasitor MOS
• Penumbuhan Lapisan Tipis µc-Si:H dengan Sistem Hot Wire PECVD untuk Aplikasi Divais Sel Surya