DEPOSISI LAPISAN TIPIS ZnO:Al PADA SUBSTRAT ALUMINA UNTUK BAHAN SENSOR GAS
ABSTRAK: Telah dilakukan deposisi
lapisan tipis ZnO:Al pada substrat alumina menggunakan teknik DC Sputtering
untuk aplikasi sensor gas. Deposisi lapisan tipis ZnO:Al dilakukan dengan
parameter proses sputtering tegangan elektroda DC sebesar 2.2 kV, arus 10 mA
dan suhu substrat 250oC, waktu deposisi divariasi 30 - 150 menit dengan
interval 30 menit dan tekanan divariasi masing-masing : 1 × 10-2 atm, 2 × 10-2 atm, 3
× 10-2 atm, 4 × 10-2 atm dan 5 × 10-2 atm.
Dari hasil karakterisasi diperoleh nilai
resistansi terendah sebesar 64 kΩ
diperoleh pada kondisi waktu deposisi 90 menit dan tekanan operasi 4 ×
10-2 atm. Hasil pengukuran
sensitivitas menunjukkan bahwa sensor gas dari bahan ZnO:Al mempunyai
sensitivitas tertinggi terhadap gas sensor C2H5OH sebesar 24%, untuk gas NH3
sebesar 19,77% dan untuk gas SO2 sebesar 17,53% pada 141,54 konsentrasi/volume.
Penulis: Sayono, Tjipto
Sujitno
Kode Jurnal: jpkimiadd070121
