DEPOSISI LAPISAN TIPIS ZnO:Al PADA SUBSTRAT ALUMINA UNTUK BAHAN SENSOR GAS

ABSTRAK: Telah dilakukan deposisi lapisan tipis ZnO:Al pada substrat alumina menggunakan teknik DC Sputtering untuk aplikasi sensor gas. Deposisi lapisan tipis ZnO:Al dilakukan dengan parameter proses sputtering tegangan elektroda DC sebesar 2.2 kV, arus 10 mA dan suhu substrat 250oC, waktu deposisi divariasi 30 - 150 menit dengan interval 30 menit dan tekanan divariasi masing-masing : 1  × 10-2 atm, 2 × 10-2   atm, 3  × 10-2   atm, 4  × 10-2 atm dan 5  × 10-2 atm.  Dari hasil karakterisasi diperoleh nilai  resistansi terendah  sebesar 64 kΩ diperoleh pada kondisi waktu deposisi 90 menit dan tekanan operasi 4  ×  10-2  atm. Hasil pengukuran sensitivitas menunjukkan bahwa sensor gas dari bahan ZnO:Al mempunyai sensitivitas tertinggi terhadap gas sensor C2H5OH sebesar 24%, untuk gas NH3 sebesar 19,77% dan untuk gas SO2 sebesar 17,53% pada 141,54 konsentrasi/volume.
Kata kunci: deposisi, sputtering, resistansi, sensor gas
Penulis: Sayono, Tjipto Sujitno
Kode Jurnal: jpkimiadd070121

Artikel Terkait :

Jp Kimia dd 2007