PEMBUATAN LAPISAN TIPIS SnO2 DENGAN METODE SPUTTERING DC UNTUK SENSOR GAS CO

ABSTRAK: Telah dilakukan pembuatan lapisan tipis SnO2 dengan metode sputtering DC untuk gas CO. Pembuatan lapisan tipis SnO2  dilakukan dengan parameter sputtering pada tegangan elektroda 2 kV, arus 10 mA, tekanan vakum 5 × 10-2 torr, waktu deposisi 30 menit, 60 menit dan 120 menit pada suhu substrat 250 0C,  sedangkan gas sputtering adalah gas argon. Hasil eksperimen menunjukkan bahwa lapisan tipis SnO2 yang dideposisi dengan parameter sputtering : tegangan 2 kV, arus 10 mA, tekanan 5 × 10-2 Torr, waktu 120 menit dan suhu 250 °C mempunyai sensitivitas optimun 23 % untuk mendeteksi gas CO pada konsentrasi 106,25 ppm. Kemudian dari hasil analisis unsur lapisan SnO2 pada kondisi optimum menggunakan SEM–EDS diperoleh Sn sebesar 31,73%, O sebesar 67,37 % atom.
Kata Kunci: Sputtering, lapisan tipis SnO2, Sensitivitas dan sensor gas
Penulis: Sayono, Suprapto, Sunardi
Kode Jurnal: jpkimiadd060096

Artikel Terkait :

Jp Kimia dd 2006